磁控溅射原理和应用及薄膜分析技术：
溅射镀膜是一种常见的薄膜／厚膜制备方法，可以制备金属和绝缘体膜。不像蒸发镀膜技术，被溅射出来的原材料不需要被加热。最有特点的是，溅射镀膜可以很方便地制备合金、金属／绝缘体等复合多层膜。
磁控溅射被广泛应用于多层复合膜、微纳电子学、防腐与耐磨涂层、团簇和纳米材料、太阳能材料等领域，镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。它和我们日常生活中的产品也息息相关，譬如光盘，磁头，通讯设备中的器件，钟表，工艺美术，玩具，车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜。
在这个系统中我们还集成了一套对薄膜应力分布和成分结构进行分析的设备，主要包含用于应力分布测量的多束光学传感器，用于成分分析的俄歇电子谱，和用于化学结构分析的Ｘ射线光电子谱。这些都是对薄膜分析的常用手段，并且集成在一个真空系统中实现原位分析，从而为科学家提供详实可靠的实验数据。这个系统还可以极其容易地升级成所谓的分布式真空系统，从而集成更多样品制备技术，和更丰富的分析手段。
超高真空磁控溅射／原位应力测量／光电子和俄歇电子谱仪系统为经济而不失水准的技术方案，整个系统包括三个真空室:
镀膜室由德国Pfeiffer公司（国际著名真空泵制造商）1000 升／秒分子泵作为主真空泵，配套有无油前级泵。通过对真空室的烘烤（系统配有），我们可以保证镀膜室的真空度可以进入10-9毫巴（即10-7帕斯卡）。
用于光电子谱／俄歇谱分析的精密样品可以液氮制冷和电阻丝加油前级泵。通过对真空室的烘烤（为美国k-SPACE 公司的多束光学传感器）对薄膜样品应力进行原位分析。
分析室配备三种分析手段：
第一是美国kSPACE公司的多束光学传感器（Multi-beam Optical Sensor），是一套极其敏感的激光系统，可以沉积（CVD），溅射和分子束外延（MBE）等。其主要特点有：由于采用了激光束阵列同时测量，对震动免疫；可以使用单窗口或双窗口方式安装；典型率厚度测量；完整的数据采集和分析软件包可以提供薄膜应力、衬底曲率、应力厚度积和均方差点间距等数据分析。
第二为俄歇电子谱（AES）。第三为Ｘ射线光电子谱（XPS）。这两种谱分析共用德国SPECS 公司为的Phoibos 100 型。它是世界上知名的分析室,半球型静电电子能量分析器，绝对能量分辨率可以达到4.4 毫电子伏，最好空间分辨达到100 微米。Phoibos 100 产品包中还含有电源、控制和数据采集的电子线路（型号为HSA 3500），主控计算机和数据采集软件包（SpecsLab），以及谱线解析软件包（CasaXPS）。电源和数据采集电路具有非常高的电气稳定性，提供多种能量范围供用户选择。在这套配置中，提供0~3500伏能量范围。 |
